化學氣相沉積法制備石墨烯
1樓：丨just灬離殤
石墨烯的製備主要可分成固相，液相，氣相三種方法，現在應用比較多的就是固相法的機械剝離法（操作簡單，產量極低），外延生長法（可獲得高質量的石墨烯，但對裝置要求較高），液相法的氧化還原法（操作簡單，產量高，但產品質量較低），氣相法的化學氣相沉積法（可製備大面積高質量的石墨烯）。目前應用最廣泛的就是化學氣相沉積法，國內許多石墨烯廠家製備石墨烯基本都是這個，像合肥微晶的cvd石墨烯產品，質量在行業中都是很好的！但化學氣相沉積法生長的條件決定了生長石墨烯的質量，首先基底的選擇決定了肆擾石墨烯的生長機制，然後是反應的溫度對晶體生長至關重要，1000度為生長石墨烯的最佳溫度。
公升溫至1000度，需要給基底預熱時間，保證與基底形成碳原子晶體的結構），還有在生長的過程中需要通入裂殲旦氫氣與氬氣，通入氣體的改賣純度也影響著石墨烯的生長。最後冷卻速度對石墨烯的生長也十分重要，需要較快的冷卻速度。要說工藝的難點就在於確保各項工藝引數的選擇，否則石墨烯的質量就會有很大的影響！
2樓：匿名使用者
你做這個是做什麼用的。
石墨烯製備方法
3樓：惠企百科
目前石墨烯製備方法主要包括化學氣相沉積法、溶劑剝離法、氧化還原法、微機械剝離法、外延生長法、電弧法、有機合成法、春遲慧電化學法等。
以化學氣相沉積法(cvd)為例：所謂cvd法，指的是反應物質於氣態條件下產生化學反應，進而在加熱固態基體表生成固態物質，從而實現固體材料的製成的工藝技術】。
目前，以cvd法進行石墨烯製備時通過將碳氫化合物等含碳氣體通入以鎳為基片、管狀的簡易沉積爐中，通過高溫將含碳氣體分解為碳原子使其沉積於鎳的表面，進而形成石墨烯，再通過輕微化學刻蝕來使鎳片與石墨烯薄膜分離，從而獲得石墨烯薄膜。該薄膜處於透光率為80％的狀態下時其導電率便高達1．1×106s／m。通過cvd法可扒答製備出大面積高質量石墨烯，但單晶鎳**則過於昂貴，該方法可滿足高質量、規模化石墨烯的製備要求，但工藝複雜，成本高，使得該方法的廣旦羨泛應用受到限制。
4樓：靳爾筠
利用氧化還原法制作：
氧化還原法是通過使用硫酸、硝酸等化學試劑及高錳酸鉀、雙氧水等氧化劑將天然石墨氧化，增大石墨層之間的間距，在石墨襪慧層與層之間插入氧化物，製得氧化石墨肆好畢（graphite oxide）。
然後將反應物進行水洗，並對洗淨後的固體進行低溫乾燥，製得氧化石墨粉體。通過物理剝離、高溫膨脹等方法對氧化石墨粉體進行剝離，製得氧化石墨烯。
最後通過化學法將氧化石墨烯還原，得到石墨烯（rgo）。這種方法操作簡單，產量高，但是產品質量較低。氧化還原法使用硫酸、硝酸等強酸，存在較大的危險性，又須使用大量的水進行清洗，帶大較大的環境汙染。
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