1樓：幕暮
光刻開始於一種稱作光刻膠。
的感光性液體的應用。圖形能被對映到光刻膠上，然後用乙個developer就能做出需要的模板圖案。光刻膠又稱光致抗蝕劑。
是以智慧型管感光材料，在光的照射與溶解度。
發生變化。光刻膠成份。
光刻膠通常有三種成分：感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據光刻膠按照如何響應紫外光。
的特性可以分為兩類：負性光刻膠和正性光刻膠。
1、負性光刻膠。
主要有聚肉桂酸系（聚酯膠）和環化橡膠系兩大類，前者以柯達公司的kpr為代表，後者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠。
主要以重氮醌為感光化合物，以酚醛樹脂。
為基體材料。最常用的有az-1350系列。正膠的主要優點是解像度高，缺點是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
光刻膠的特點。
1、在光的照射下溶解速率發生變化，利用**區與非**區的溶解速率差來實現圖形的轉移；
2、溶解抑制/溶解促進共同作用；
3、作用的機理因光刻膠膠型別不同而不同；
光刻膠的主要技術引數。
1、解像度：區別矽片表面相鄰圖形特性的能力，一般用關鍵尺寸來衡量解像度。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的解像度越好。
2、對比度。
指光刻膠從**區到非**區過渡的陡度。對比度越好，形成圖形的側壁越陡峭，解像度越好。
3、敏感度：光刻膠上產生乙個良好的圖形所需一定波長的最小能量值（或最小**量）。單位：
毫焦/平方釐公尺或mj/cm2。光刻膠的敏感性對於波長更短的深紫外光（duv）、極深紫外光（euv）等尤為重要。
4、粘滯性/黏度：衡量光刻膠流動特性的引數。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會產生厚的光刻膠；越小的粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。
5、粘附性：表徵光刻膠粘著於襯底。
的強度。光刻膠的粘附性不足會導致矽片表面的圖形變形。
6、抗蝕性：光刻膠必須保持它的粘附性，在後續的刻蝕工序中保護襯底表面。
7、表面張力。
液體中將表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。
8、儲存和傳送：能量可以啟用光刻膠。應該儲存在密閉、低溫、不透光的盒中。同時必須規定光刻膠的閒置期限和存貯溫度環境。
光刻膠的主要作用。
1、將掩膜板上的圖形轉移到矽片表面的氧化層；
2、在後續工序中，保護下面的材料（刻蝕或離子注入）。
2樓：羊肉果子
光刻膠作為半導體制造過程中必不可少的材料，主要作用是在光的照射下，其中的感光成分發生化學變化，從而實現將掩膜版上的圖形轉移到矽片等表面上的目的。光刻膠主要組分有成膜樹脂、感光成分、微量新增劑和溶劑，其中成膜樹脂用於提供機械效能和抗刻蝕能力；感光組分在光照下發生化學變化，引起溶解速率的改變；微量新增劑包括染料、增粘劑等，用以改善光刻膠效能；溶劑用於溶解各組分，使之均勻混合。
光刻膠按照感光波長可分為紫外、深紫外、極紫外、電子束、離子束以及x射線類光刻膠，目前常用的光刻膠有紫外、深紫外光刻膠，極紫外光刻膠將在10nm及以下節點實現應用。
光刻膠是什麼材料 起什麼作用
3樓：我愛聊生活冷知識
材料：由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
作用：在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕塗層材料。
光刻膠。photoresist）又稱光致抗蝕劑檔喊。
是指通過紫橘改外光、電子束、離子束、x射線。
等的照射或輻射，其溶解度。
發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。半導體材料在表面加工時，若採用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的影象。光刻膠按其形成的影象分類有正性、負性兩大類。
光刻膠
在光刻膠工藝過行伍野程中，塗層**、顯影后，**部分被溶解，未**部分留下來，該塗層材料為正性光刻膠。如果**部分被保留下來，而未**被溶解，該塗層材料為負性光刻膠。按**光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）。
深紫外光刻膠、x-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用於顯示面板、積體電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。光刻膠生產技術。
較為複雜，品種規格較多，在電子工業積體電路的製造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。
以上內容參考：百科——光刻膠
4樓：青檸姑娘
1、光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外**或電子束曝照圖案的媒介。早纖光刻膠梁姿的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。
光刻膠只是一種形橡睜絕象的說法，因為光刻膠從外觀上呈現為膠狀液體。
2、光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋於基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，**的負性光刻膠或未**的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而後續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最後再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠是什麼材料起什麼作用
5樓：惠企百科
光刻膠。是一種具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物。
材料，是轉移紫外**或電子束**圖形的介質。光刻膠的英文名是resist，也翻譯成resist、photoresist等。光致抗蝕劑。
的功能是作為抗蝕刻層保護襯底表面。光致抗蝕劑只是一吵首種影象，因為它在外觀上是以膠狀液體出現的。
光致抗蝕劑通常以薄膜的形式均勻地塗覆在襯底的表面上。當受到紫外褲棚光。
或電子束照射時，光致抗蝕劑材料本身的特性會發生變化。用顯影劑顯影后，**的公升純數負性光刻膠或未**的正性光刻膠會殘留在基底表面，從而將設計好的微納結構轉移到光刻膠上。後續的刻蝕、沉積等工藝可以進一步將這種圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最後用光刻膠去除劑去除光刻膠。
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